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第324章 工厂奠基,购买光刻机

  第324章 工厂奠基,购买光刻机 (第1/2页)
  
  订完婚又在东江呆了一阵子,陈平江马不停蹄的赶回了沪上。
  
  5月6日也就是明天,华兴国际位于沪上的300毫米(12英寸)晶圆厂暨设计服务中心将正式奠基开工。
  
  在此之前,华芯国际已经获得了沪上临浦经济开发区桥林片土地的使用权,期限。产房建设一应审批手续全部走绿色通道在最短时间内完成。
  
  该项目投资总额约为487亿元人民币,共分为两期,一期项目预计2013年上半年完工,投资214亿元。
  
  华芯国际沪上一期项目占据了24万平方米,其中其中包含了FAB3P1生产厂房及配套建筑、构筑物等,共计4887根基础桩。
  
  公司主要运营制造12英寸集成电路圆片、集成电路封装系列;技术检测;与集成电路有关的技术开发、技术服务、设计服务业务,一期工厂建成后预计每月可实现8万片12英寸晶圆产能。
  
  所谓的12英寸和8英寸具体区别在于:12英寸晶圆可以容纳更多的电路图案,适合生产更大规模的集成电路。
  
  此外,12英寸晶圆通常用于需要高性能的逻辑芯片(如CPU、GPU等)和存储芯片(如DRAM、NAND等),这些产品通常应用于高性能计算和个人电子设备。而8英寸晶圆则多用于制造较为低端的芯片,如物联网、汽车电子、部分显卡等,这些应用对成本和性能的要求相对较低。
  
  应用领域方面。12英寸晶圆主要用于生产高性能的计算和个人电子设备所需的高端芯片。而8英寸晶圆则更多地应用于工业控制、汽车电子、物联网等对成本和性能要求不那么高的领域。
  
  说白了,12英寸比8英寸更牛逼。
  
  类似4G5G芯片都是12英寸的晶圆厂生产出来的。
  
  张汝京、梁孟松两人作为联席CEO,也都赶了过来。
  
  一见到陈平江,就面带笑意的感慨:“速度很快啊。”
  
  陈平江点点头道:“不快不行啊。”
  
  这一个多月的时间里,张老去了一趟美国,梁老则在台岛转了转。
  
  张汝京道:“我这边大概联系了有两百来号人,绝大部分都没问题,他们将在近期递交辞呈,辞职后休息一段时间,工厂初步可以运转了,他们就会过来。”
  
  梁孟松也点头:“我这边六十也都确定了,都是之前的同事朋友,还有我的学生。我和张老估计了一下,后续应该还能再带来100。”
  
  陈平江满脸喜意,家有一老胜过一宝。
  
  这二位没想到在短短的一个半月内,就能捞到这么,可想而知,威望之高
  
  “张忠谋很快就会知道了吧?”陈平江问。
  
  张老道:“我们出现在这里,自然不怕他知道。他就算知道也没用,我们眼下什么产品都没有,他想告也告不了,除非我们正式投产,而且产能扩张很快,威胁到了台积电的利益,他才会告我们,而且是必然。”
  
  梁老开玩笑的问陈平江:“怕不怕?工厂还没建,就被人盯上了。”
  
  陈平江嗤笑一声:“怕?怕什么。敢做芯片我就想到过有这么一天。”
  
  正如陈平江所言,根本没在怕的。
  
  就算不被台积电盯上,再过10年也会被老美政府盯上,所以有什么区别吗?
  
  而如果能够在不断的制裁打压中,研发出自己的专利,台积电那边也就不足为虑。
  
  至于老美政府那边伸头缩头都会有这一刀,陈平江眼下要做的就是和时间赛跑。
  
  台积电之前在美国起诉中芯国际,称其侵犯专利权。只要陈平江不把芯片往美国卖,他就暂时不怕。
  
  而在国内打官司,指不定谁输谁赢呢。
  
  到时候有的扯皮。
  
  如果有人问,为什么一定要侵犯台积电的专利呢?
  
  很简单,路就在那,被人设了关卡。
  
  想要过去就得交买路钱,而台积电还不是一般的路匪,即便交钱他都不会会把专利授权给你。
  
  毕竟人家就靠这玩意吃饭的,他当然不希望有别的竞争对手。
  
  IMB之所以愿意和中芯合作,完全是因为芯片制造这块他们干不过了,与其留着不如卖点钱罢了。
  
  如果想过去的话,只能偷偷用他的专利,查到之后就扯皮呗。
  
  只有自己研发出新的技术,和对方置换专利才是解决问题之道。
  
  制裁的大棒终究一天落下来,这玩意不以人的意志为转移。
  
  陈平江能做的就是在制裁前积攒足够的本钱,像华为一样,依然能够很健康的活下来。
  
  这才是最理想状态!
  
  所以说华为是真的顶,经过那么多轮的制裁,居然还能活下来,本身就是个奇迹。
  
  对于中芯也不能苛责,你用人家的技术就得老实听话,不然就让你拿不到原材料,甚至是光刻机。
  
  那样工厂怎么开工,怕是过不了多久就要关门。
  
  如果ASML抽疯,直接后台锁了光刻机。
  
  陈平江倒不担心,一旦搞到那种程度,ASML也必然遭到报复。
  
  ASML也不傻,总想绕开老美,卖光刻机过来,更不想因此彻底失去大陆市场。
  
  所以说自研才是王道。
  
  …………
  
  这次随着张汝京和梁孟松一起来的,还有一些未来在华芯担任重要岗位的骨干。
  
  陈平江陪的这些这群人当天晚上好好喝了一顿。
  
  第二天上午八点,众人就坐车往临浦赶去。
  
  这次的奠基仪式规格相当高,沪上的一二把手也会亲临现场。
  
  陈平江三人坐在打头的第1辆mpv里,聊起了未来的打算。
  
  张老道:“我认为我们应该先从IBM那里通过技术转移或者合作的方式拿到40纳米和32纳米的授权,然后把研发重心放在32纳米上,尽早实现40纳米的量产,这样既能够积累客源,也能够减少公司的运营压力。”
  
  陈平江点点头,转而问梁老:“您怎么看?”
  
  梁孟松笑着道:“老张和我的想法一样。”
  
  “28纳米不尝试下吗?”陈平江好奇问。
  
  “呃……”二老你看看我,我看看你,苦笑一声。
  
  “我们能在最短时间内突破32纳米就不错了,至于28纳米想都不敢想,目前应该也只有台积电,在研发上比较领先,有望今年量产。”
  
  张老也道:“主要是太难了。”
  
  在这个时间节点上28纳米就是最先进的,是这个年代的先进制程。
  
  28纳米就是一个大节点。与40纳米工艺相比,28纳米栅密度更高、晶体管的速度提升了约50%,每次开关时的能耗则减小了50%。
  
  陈平江在脑海里想了想措辞:“我之前有了解过曝光技术。当时很好奇为什么不通过多次曝光来提升光刻的效率和精确度。”
  
  多重曝光即用多个掩膜板,在同一块晶圆上进行多次光刻操作,将不同的图案叠加在一起,形成更细微的图案。这相当于用多个胶片拼接出一个更精细的图像。
  
  梁老笑着道:“看来平江你的确了解过,不过你了解的可能不全面,行业里面倒是听过有两次曝光的,但多次的话,估计还真没有。不是说做不到,而是生产出来的芯片良率过低,成本过高,最终得不偿失。假设我们一次曝光的良率和台积电相同,都能达到90%,经过四次曝光后的芯片良率为0.9×0.9×0.9×0.9,也就是65%。”
  
  “这个良品率太低了,我们得卖什么样的价格给客户?客户最终又接受不接受我们的价格?所以说还不如买最新的DUV光刻机经过一次曝光。”
  
  陈平江笑着点头,“我就是随口说说。假如先用一个掩膜板,在晶圆上刻出一个较粗糙的图案,然后在图案上覆盖一层如氧化硅,再用另一个掩膜板,在硬质材料上刻出一个较细致的图案。最后去掉硬质材料和多余的部分,只留下最终想要的图案。这相当于用两个胶片分别放大和缩小一个图像,再将它们重合在一起。”
  
  “当然了,我们就是瞎聊,我也不懂,二老不要笑话我才好。”
  
  谁知道陈平江刚刚说完,张汝京和梁孟松嘴巴张得老大,一副看怪物的模样看着陈平江。
  
  “这是别人和你说的还是你想到的?”
  
  陈平江假模假样的摆摆手:“我不说了不说了,哈哈,都说我不懂了。”
  
  下一秒,梁老直接抓住了陈平江的胳膊追问:“你说的方案极有可能实现,即便不如用更好的DUV来生产,但也绝对是能够达到目标的方案。”
  
  陈平江摆出一副讶异的模样:“是吗?我真的不知道,就是随便说说的,以前看过相关方面的书籍,然后里幻想过。”
  
  张汝京也惊叹:“这样的话大概能解决一部分良率的问题,实在不行我们可以再进行一次类似操作。”
  
  “绝对性,这等于就曝光两次,但是我们必须研发一套专用的设备。”
  
  张汝京和梁孟松对视了一眼,当看到了华芯国际弯道超车的希望。
  
  两人眼中不约而同迸发出非一般的神采。
  
  真是天才般的构想。
  
  两人甚至连接下来的奠基仪式都没什么心思参加了,恨不得去复旦大学的实验室验证下。
  
  
  
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